M:L精选氧化铝均匀涂附于高平整度高强韧性聚酯薄膜上.广泛应用于金属.塑胶.油漆研磨.汽车.列车零部件.轴类零件抛光.:氧化铝:MIL千分之三英寸背基厚度:开放式植砂L:薄膜背基M:精密研磨卷(EMMD):XXXXXXXXXWLLLLLLLLLXXXWXYXXWXULLM微型马达专用抛光带:M抛光带X
・?品牌/型号:M
・?规格:ML
・?适用范围:抛光打磨
・?材质:纱布
・?基体厚度:mm
・?用途:抛光打磨
・?最高工作线速:m/s
・?磨粒材料:氧化硅
・?颜色:灰色
・?外径:mm
・?粒度:DDMIC目
・?重量:kgg
・?周长:DDmmmm
・?最大线速度:m/sm/s
・?宽度:DDmmmm
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